光學鍍膜的真空蒸鍍是在10-8~10-4Pa的壓力下，采用各種形式的熱能轉換方式使鍍膜材料蒸發，并成為具有- -定能量的氣粒子(原子、分子或原子團),蒸發的氣態粒子通過基本.上無碰撞的直線運動方式傳輸到基底，然后在基底上凝聚成薄膜。基底通常接地，不加偏壓。在真空蒸鍍時，氣態粒子是由放于蒸發源中的蒸發材料產生的，而蒸發源的加熱可以采用電阻法、高頻感應法.電子束轟擊、激光蒸發或放電法等。

　　該真空蒸鍍設備的工作室為金屬鐘罩，并備有手動的或液壓的提升機構。底盤下面是由機械泵和擴散泵組成的抽氣系統，通過真空閥門對工作室抽真空。氣體過針閥進人真空室，底盤上有真空測試用的規管。利用.上述的抽氣系統可以使工作室的真空度達10-3~10-4Pa以上,采用加熱器烘烤基片以便去除基片上吸附的氣體。鍍膜材料是通過電阻加熱的蒸發源來蒸發的，它們可以呈絲狀或加工成舟狀。鍍膜材料呈“游標”狀態懸掛著或纏繞在蒸發源絲的上面。有些材料是從陶瓷坩堝中蒸發，用螺旋形加熱器通電加熱。

　　利用電阻加熱器加熱蒸發的鍍膜機的構造簡單、造價便宜、使用可靠,可用于熔點不太高的材料(低于1300°C)的蒸發鍍膜，尤其適用于對膜層質量要求不太高的大批量的生產中。迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產中仍然大量使用著電阻加熱蒸發的工藝。采用電阻加熱蒸發的蒸鍍技術時,值得注意的是加熱器材料的選用。常用的電阻加熱器的材料為W、Ta和Mo等高熔點的金屬。表1-2為蒸發加熱器材料的性質。在加熱時，加熱器材料被蒸發的分子數非常少，這樣才

　　能減少使加熱器材料作為雜質而進人薄膜的可能性。為了做到這一點，加熱器材料的使用溫度應當低于它的平衡蒸氣壓為10-°Pa的溫度。此外，要選擇合適的加熱器材料和燕發材料的組合，使它們在高溫時不會因為發生擴散和化學反應而形成合金或化合物。