目前，鍍膜技術(shù)作為材料制備的新技術(shù)，已從實(shí)驗(yàn)室的探索性研究轉(zhuǎn)而應(yīng)用于大規(guī)模的工業(yè)生產(chǎn)，并且正在向各個(gè)行業(yè)中滲透,其應(yīng)用范圍和作用還正在不斷地?cái)U(kuò)大和深化。這種新技術(shù)不僅涉及到物理學(xué)、化學(xué)、結(jié)晶學(xué)、表面科學(xué)和固體物理等基礎(chǔ)學(xué)科，還和真空、冶金和化工等技術(shù)領(lǐng)域密切相關(guān)。

　　在氣態(tài)質(zhì)遷移時(shí)，為了保證膜層的質(zhì)量，一般都是在真空鍍膜加工或惰性氣氛中進(jìn)行，并施加電場(chǎng)、磁場(chǎng)或高頻等外界條件來(lái)進(jìn)行活化，以增加到達(dá)基底上的氣態(tài)物質(zhì)的能量，提供氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)的能量，即提供氣態(tài)物質(zhì)反應(yīng)的激活能。薄膜在基底上的形成過(guò)程是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程，它包括:膜的形核、長(zhǎng)大，膜與基底表面的相互作用等等。近年來(lái)，薄膜制作時(shí)還在基底上施加電場(chǎng)、磁場(chǎng)、離子束轟擊等輔助手段，其目的都是為了控制凝聚成膜的質(zhì)量和性能。根據(jù)成膜方法的基本。

　　在真空蒸鍍時(shí)，氣態(tài)粒子是由放于蒸發(fā)源中的蒸發(fā)材料產(chǎn)生的，而蒸發(fā)源的加熱可以采用電阻法、高頻感應(yīng)法、電子束轟擊、激光蒸發(fā)或放電法等。圖1-1是真空蒸鍍?cè)O(shè)備和一些蒸發(fā)源的簡(jiǎn)圖。該真空蒸鍍?cè)O(shè)備的工作室為金屬鐘罩，并備有手動(dòng)的或液壓的提升機(jī)構(gòu)。底盤(pán)下面是由機(jī)械泵和擴(kuò)散泵組成的抽氣系統(tǒng)，通過(guò)真空閥門(mén)對(duì)工作室抽真空。氣體通過(guò)針閥進(jìn)人真空室，底盤(pán)上有真空測(cè)試用的規(guī)管。利用.上述的抽氣系統(tǒng)可以使工作室的真空度達(dá)10-9~10-*Pa以上,采用加熱器烘烤基片以便去除基片上吸附的氣體。鍍膜材料是通過(guò)電阻加熱的蒸發(fā)源來(lái)蒸發(fā)的，它們可以呈絲狀或加工成舟狀。鍍膜材料呈“游標(biāo)”狀態(tài)懸掛著或纏繞在蒸發(fā)源絲的上