1.表面處理:通常,鍍膜之前,應對基材(鍍件)進行除油、除塵等預處理,以保證鍍件的整潔、干燥.

　　2.底涂:底涂施工時,可以采用噴涂,也可采用浸涂,具體應視鍍件大小、形狀、結構及用戶設備等.

　　3.底涂烘干:SZ-97鍍膜油系列均為自干型漆,烘干的目的是為了提高生產效率。通常烘干的溫度.

　　4.鍍膜:鍍膜時,應保證鍍膜機的真空度達到要求后,再加熱鎢絲,并嚴格控制加 熱時間。同時應.

　　5.面涂:通常面涂的目的有以下兩個方面:A、提高鍍件的耐水性、耐腐蝕性、耐磨耗性;B、為水染...

　　真空鍍膜加工主要指一類需要在較高真空度下進du行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

　　需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

　　蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且沉積在基片表面，經歷成膜過程，然后形成薄膜。

　　典型的真空鍍膜，包括了錄像帶，數據磁帶DAT，以及很多電極的制作過程。