濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優點，已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量較大的 PVD 鍍膜材料。 蒸發鍍膜簡單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來看，蒸鍍材料的制造復雜度要遠遠低于濺射靶材，蒸發鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

　　競爭格局

　　平板顯示器主要包括液晶顯示器（LCD）、等離子顯示器（PDP）、場致發光顯示器（EL）、場發射顯示器（FED）、有機發光二極管顯示器（OLED）以及在 LCD 基礎上發展起來的觸控（TP）顯示產品。 其中，市場應用以液晶顯示器為主。鍍膜是現代平板顯示產業的基礎環節，為保證大面積膜層的均勻性，提高生產率和降低成本，幾乎所有類型的平板顯示器件都會使用大量的鍍膜材料來形成各類功能薄膜，其所使用的 PVD 鍍膜材料主要為濺射靶材，平板顯示器的很多性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關。

　　平板顯示行業主要在顯示面板和觸控屏面板兩個產品生產環節使用 PVD光學 鍍膜材料。其中，平板顯示面板的生產工藝中，玻璃基板要經過多次濺射鍍膜形成 ITO 玻璃，然后再經過鍍膜，加工組裝用于生產 LCD 面板、PDP 面板及 OLED 面板等。觸控屏的生產，則還需將 ITO 玻璃進行加工處理、經過鍍膜形成電極，再與防護屏等部件組裝加工而成。 此外，為了實現平板顯示產品的抗反射、消影等功能，還可以在鍍膜環節中增加相應膜層的鍍膜。

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