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真空鍍膜加工的常用辦法
真空鍍膜加工的辦法許多：
（1）真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣到達約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。
（2）陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體（如氬）通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子碰擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子經(jīng)過惰性氣氛堆積到基體上形成膜。
（3）化學氣相堆積：經(jīng)過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，取得堆積薄膜的進程。
（4）離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。
