什么是鍍膜材料，鍍膜材料有什么用處。

　　膜系的特性取決于構(gòu)成膜系的資料。比方，氧化物層一般比氟化物、硫化物或半導(dǎo)體層硬得多，因而，氧化物層適合于在外外表運用。 在溫度規(guī)模很寬的情況下，濾光片應(yīng)防止運用半導(dǎo)體膜層，因為半導(dǎo)體的光學(xué)常數(shù)隨溫度變化很大。關(guān)于某些金屬資料，由于強度很低，易構(gòu)成損害，暴露在大氣中，也簡單氧化。關(guān)于這樣的膜層要加保護層，或許將其膠合在兩個透明板之間。關(guān)于其他資料，鍍膜時為了保證膜層與基底很好地粘合，需要在基底上鍍附著層。比方，在玻璃基底上鍍金(Au)膜之前，常常先在玻璃上鍍鎳(Ni)附著層。

　　真空鍍膜適用于金屬、樹脂、塑料（ABS、發(fā)泡塑料、收回塑料）、玻璃（水晶）、陶瓷、 亞克力、木材、水泥、磷鎂等各種資料?？蓮V泛應(yīng)用于汽車、電器、工藝品、電腦手機、飾品、高檔家具等多種外表裝飾職業(yè)，由此可誕生出多種新的裝飾職業(yè)。

　　非導(dǎo)電樣品絕緣電阻大，在電子束的接連掃描下，樣品外表逐步積累負(fù)電荷，構(gòu)成相當(dāng)高的負(fù)電場，排斥入射電子，二次電子發(fā)射不安穩(wěn)，并隨機偏轉(zhuǎn)二次電子軌道，影響探測器接收，構(gòu)成圖畫晃動、亮度突變、呈現(xiàn)無規(guī)則的明暗條紋，這就是所謂的“荷電效應(yīng)”，也稱“充電效應(yīng)”。一般鍍一層導(dǎo)電薄膜可以進(jìn)步樣品的導(dǎo)電性，外表的負(fù)電荷通過導(dǎo)電膜釋放入地，消除荷電現(xiàn)象。電荷釋放的條件是膜層必須與金屬樣品臺相連接，構(gòu)成導(dǎo)電通道。接連的導(dǎo)電膜也可以進(jìn)步樣品的導(dǎo)熱性，減小熱損害?，F(xiàn)在實驗室常用的鍍膜技術(shù)為真空蒸發(fā)和離子濺射。

　　導(dǎo)電膜層應(yīng)該具有二次電子產(chǎn)率高和杰出的掩蓋性，而且膜層均勻，在電子束下安穩(wěn)。這層膜能夠把樣品外表的微觀細(xì)節(jié)如實地反映出來，并能有效地改善圖畫質(zhì)量。一般選用的鍍膜資料有C、Al、Cr、Au、Pt、Au-Pd合金。 其間Au 膜二次電子產(chǎn)率高、掩蓋性好、鍍膜簡單，是最常用的資料，可是 Au膜顆粒較大，高倍下觀察到顯著的“島狀結(jié)構(gòu)”，這是一種裝飾假象，見圖1-8a。鍍Au適用于中低規(guī)模的分辨率、兩萬倍以下的圖畫。Pt和Au-Pd合金膜的顆粒要細(xì)得多，適于高分辨率圖畫，見圖1-8b。運用場發(fā)射電鏡對膜層要求更高，要求至少在20萬倍下膜層不能閃現(xiàn)結(jié)構(gòu)，高真空鍍Cr可以滿足要求。C膜均勻性好、導(dǎo)電導(dǎo)熱效率高，又是最經(jīng)濟的資料，僅僅C膜的二次電子產(chǎn)率低，不適合高倍圖畫。