真空鍍膜加工的基本技能要求
1、設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)契合GB/T6070的規(guī)則。

2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)設(shè)備真空丈量規(guī)管，分別丈量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場(chǎng)對(duì)丈量造成攪擾時(shí)，應(yīng)在丈量口處設(shè)備電場(chǎng)屏蔽設(shè)備。

3、假如設(shè)備運(yùn)用的主泵為分散泵時(shí)，應(yīng)在泵的進(jìn)氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱

4、設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，應(yīng)設(shè)有擋板設(shè)備。觀察窗應(yīng)能觀察到堆積源的作業(yè)情況以及其他關(guān)鍵部位。

5、離子鍍堆積源的規(guī)劃應(yīng)盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜資料的利用率，合理匹配堆積源的功率，合理布置堆積源在真空室體的位置。

6、合理布置加熱設(shè)備，一般加熱器結(jié)構(gòu)布局應(yīng)使被鍍工件溫升均勻一致。

7、工件架應(yīng)與真空室體絕緣，工件架的規(guī)劃應(yīng)使工件膜層均勻。

8、離子鍍膜設(shè)備一般應(yīng)具有工件負(fù)偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應(yīng)具有抑制非正常放電設(shè)備，維持作業(yè)穩(wěn)定。

9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的巨細(xì)，均按GB/T11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事項(xiàng)

1）環(huán)境溫度：10-30oC

2）相對(duì)濕度：不大于75%

3）冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25oC

4）冷卻水質(zhì)：城市自來水或相當(dāng)質(zhì)量的水。

5）供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需求而定)；電壓波動(dòng)范圍：342-399V或198-231V；頻率波動(dòng)范圍：49-51Hz。

6）設(shè)備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應(yīng)在產(chǎn)品運(yùn)用說明書中寫明。

7）設(shè)備周圍環(huán)境整齊，空氣清潔，不應(yīng)有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。