透過(guò)率

定義與測(cè)量原理：透過(guò)率是指光線透過(guò)光學(xué)鍍膜元件后，出射光通量與入射光通量之比。通常使用分光光度計(jì)來(lái)測(cè)量。分光光度計(jì)可以產(chǎn)生不同波長(zhǎng)的光，照射到鍍膜元件上，然后在另一側(cè)透過(guò)的光強(qiáng)度，通過(guò)比較入射光和透過(guò)光的強(qiáng)度，就能計(jì)算出不同波長(zhǎng)下的透過(guò)率。例如，對(duì)于一個(gè)用于相機(jī)鏡頭的增透膜，在可見(jiàn)光范圍內(nèi)（400 - 700nm），透過(guò)率越高，說(shuō)明鏡頭對(duì)光線的利用效率越高，成像越明亮清晰。

應(yīng)用場(chǎng)景要求：在光學(xué)成像系統(tǒng)如相機(jī)鏡頭、顯微鏡物鏡等中，要求在可見(jiàn)光波段有較高的透過(guò)率，一般希望達(dá)到 90% 以上，以減少光線損失，提高成像質(zhì)量。在光通信領(lǐng)域的光纖耦合器等元件中，特定波長(zhǎng)（如 1310nm 和 1550nm）的透過(guò)率要達(dá)到很高的水平，通常在 95% - 99% 左右，以保證信號(hào)的傳輸。

反射率

定義與測(cè)量原理：反射率是指反射光通量與入射光通量之比。測(cè)量反射率可以使用反射計(jì)，它通過(guò)向鍍膜元件表面發(fā)射已知強(qiáng)度的光，然后測(cè)量反射光的強(qiáng)度來(lái)計(jì)算反射率。對(duì)于高精度的反射率測(cè)量，還會(huì)采用積分球來(lái)收集反射光，以確保測(cè)量的準(zhǔn)確性。例如，在激光反射鏡的鍍膜中，反射率是一個(gè)關(guān)鍵指標(biāo)，高反射率的鍍膜可以使激光在反射鏡之間多次反射而損失較少的能量。

應(yīng)用場(chǎng)景要求：在激光應(yīng)用領(lǐng)域，如激光諧振腔中的反射鏡，要求在激光波長(zhǎng)處具有極高的反射率，一般在 99% 以上，以保證激光的振蕩。在光學(xué)儀器的抗反射鍍膜中，則希望反射率盡可能低，在某些波段可能要求反射率低于 1%，以減少雜散光和反射損失。

吸收率

定義與測(cè)量原理：吸收率是指被光學(xué)元件吸收的光通量與入射光通量之比。根據(jù)能量守恒定律，吸收率等于 1 減去透過(guò)率和反射率之和。可以通過(guò)測(cè)量透過(guò)率和反射率后間接計(jì)算得到吸收率，也可以使用量熱法等特殊方法直接測(cè)量。例如，在一些用于高能量激光系統(tǒng)的光學(xué)元件中，需要考慮鍍膜的吸收情況，因?yàn)檫^(guò)高的吸收可能導(dǎo)致元件溫度升高，損壞。

應(yīng)用場(chǎng)景要求：在高功率激光系統(tǒng)中，要求光學(xué)鍍膜的吸收率盡可能低，以避免因吸收過(guò)多能量而產(chǎn)生熱透鏡效應(yīng)或損壞光學(xué)元件。對(duì)于一些對(duì)溫度的光學(xué)儀器，如紅外熱成像儀中的光學(xué)元件，也需要控制鍍膜的吸收率，以防止因吸收熱量而影響儀器的性能。

偏振特性

定義與測(cè)量原理：光學(xué)鍍膜后的元件可能會(huì)對(duì)光的偏振態(tài)產(chǎn)生影響，包括改變偏振方向和偏振度。可以使用偏振計(jì)來(lái)測(cè)量光在通過(guò)鍍膜元件前后的偏振態(tài)變化。例如，在一些光學(xué)干涉儀和偏振光顯微鏡中，需要控制光的偏振態(tài)，因此對(duì)鍍膜后的偏振特性有嚴(yán)格要求。

應(yīng)用場(chǎng)景要求：在偏光顯微鏡中，用于觀察具有雙折射性質(zhì)的材料，要求光學(xué)鍍膜能夠保持或準(zhǔn)確改變光的偏振態(tài)，以實(shí)現(xiàn)對(duì)材料微觀結(jié)構(gòu)的清晰觀察。在光纖通信中的偏振控制器等元件中，鍍膜后的偏振特性也需要滿足特定的要求，以保證信號(hào)的正確傳輸和處理。

光學(xué)均勻性

定義與測(cè)量原理：光學(xué)均勻性是指鍍膜在整個(gè)光學(xué)元件表面上光學(xué)性能的一致性。可以通過(guò)掃描式的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，在元件表面不同位置測(cè)量透過(guò)率、反射率等光學(xué)性能指標(biāo)，然后比較這些指標(biāo)的差異來(lái)評(píng)估光學(xué)均勻性。例如，對(duì)于大面積的光學(xué)窗口，如天文望遠(yuǎn)鏡的觀測(cè)窗口，光學(xué)均勻性差可能導(dǎo)致成像質(zhì)量下降，出現(xiàn)像差和色差等問(wèn)題。

應(yīng)用場(chǎng)景要求：在大面積光學(xué)元件（如大屏幕投影設(shè)備的投影鏡頭、太陽(yáng)能聚光鏡等）和高精度光學(xué)儀器（如光刻機(jī)的光學(xué)鏡頭）中，對(duì)光學(xué)均勻性要求極高。一般要求在整個(gè)元件表面，透過(guò)率、反射率等光學(xué)性能的變化在很小的范圍內(nèi)，例如，透過(guò)率的變化不超過(guò) ±1%。

光譜選擇性

定義與測(cè)量原理：光譜選擇性是指鍍膜元件對(duì)不同波長(zhǎng)的光具有不同的光學(xué)性能，如在某些波長(zhǎng)范圍內(nèi)有高透過(guò)率，而在其他波長(zhǎng)范圍內(nèi)有高反射率。通過(guò)分光光度計(jì)在較寬的波長(zhǎng)范圍內(nèi)測(cè)量透過(guò)率或反射率曲線，可以評(píng)估光譜選擇性。例如，在光學(xué)濾光片的鍍膜中，通過(guò)設(shè)計(jì)鍍膜的材料和厚度，使濾光片能夠選擇性地透過(guò)或反射特定波長(zhǎng)的光。

應(yīng)用場(chǎng)景要求：在光譜分析儀器（如光譜儀）中，需要使用具有特定光譜選擇性的光學(xué)鍍膜元件來(lái)分離和不同波長(zhǎng)的光。在光學(xué)防偽領(lǐng)域，也會(huì)利用具有特殊光譜選擇性的鍍膜來(lái)制作防偽標(biāo)識(shí)，通過(guò)在特定波長(zhǎng)下顯示或隱藏圖案來(lái)實(shí)現(xiàn)防偽功能。