PVD 鍍膜材料主要用以制備各種具有特定功能的薄膜材料，應用領域包括平板顯示、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、 光學元器件、 節能玻璃、 LED、工具改性、高檔裝飾用品等。

薄膜材料生長在基體材料(如玻璃、光學玻璃等)上，通常由金屬、非金屬、合金或復合材料的涂層形成。它具有高滲透性、吸收性、截止性、光分離性、反射性、過濾性、干擾性、防護性、防水防污性、抗靜電性、導電性、導磁性、絕緣性、耐磨性。具有耐高溫、耐腐蝕、耐氧化、防輻射、裝飾重組等功能，可提高產品質量、環保、節能、延長產品使用壽命。提高原有性能等。目前，薄膜的制備技術主要包括物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)。

薄膜材料生長于基板材料(如屏顯玻璃、光學玻璃等)之上，一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經過鍍膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護、防水防污、防靜電、導電、導磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和復合等功能，并能夠提高產品質量、環保、節能、延長產品壽命改善原有性能等。目前，薄膜材料制備技術主要包括物理氣相沉積(PVD)技術和化學氣相沉積(CVD)技術。

PVD 技術是制備薄膜材料的主要技術之一，指在真空條件下采用物理方法，將某種物質表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基板材料表面沉積具有某種特殊功能的薄膜材料的技術。在PVD 技術下，用于制備薄膜材料的物質，統稱為 PVD 鍍膜材料。經過多年發展，PVD 技術已成為目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜。

CVD 技術是在高溫下依靠化學反應、把含有構成薄膜元素的氣態反應劑或液態反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發生化學反應生成薄膜材料的技術