光學鍍膜是利用光的干涉作用在薄膜光學中廣泛應用的一種光學材料。光學薄膜技術常用的方法是通過真空濺射在玻璃基板上鍍膜，一般用于控制基板對入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的需求。為了消除光學部件表面的反射損失，提高成像質量，鍍膜一層或多層透明介電膜，稱為減反射膜或減反射膜。

光學零件表面鍍膜后，光線在膜層上多次反射透射，形成多束干涉，控制薄膜層的折射率和厚度，可得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

真空鍍膜:真空鍍膜主要是指需要較高真空的鍍膜，包括真空離子蒸發、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等鍍膜，所以。有兩種主要類型的蒸發和濺射。將所述電鍍材料制成底物，將所述電鍍材料用作靶材或藥物。襯底與目標處于相同的真空中。

常見的光學鍍膜材料如下:

1、氟化鎂材料特點:無色四方粉末，純度高，用其制備的光學涂料可提高透光率，無斷點。

2、二氧化硅材料特點:無色透明晶體，熔點高，硬度高，化學穩定性好。純度高，用它制備出高質量的Si02涂層，蒸發狀態好，無斷點。按使用要求分為紫外線、紅外線和可見光。

3、氧化鋯材料特點為白色重結晶狀態，具有高折射率和耐高溫性，化學性質穩定，純度高，用其制備出優質氧化鋯涂料，無斷裂點