蒸發過程中，需要設定條件:膜材蒸發溫度、膜材蒸發的蒸汽壓力;膜材料的蒸發速率。鍍膜材料逃逸遷移的蒸發過程中，需要建立條件:在鍍膜過程中，要保持真空室的真空度一直高于10-2Pa，真空度應是一個合適的固定值，不是越高越好。為了使反應氣體與氣膜材料顆粒充分反應，可選擇較低的沉積速率。當然，對于不同的材料，應選擇不同的蒸發速率。

     如果根據透明度判斷，鋁箔、鍍鋁膜一般是不透明的復合膜;具有高阻隔功能，一般用于復合膜。從薄膜的外觀和機械性能可以大致判斷基膜材料。真空鍍膜專指在真空條件下用物理方法，將物質表面氣化成氣態原子、分子或部分電離離子，并通過低壓氣體的過程，將基材材料表面沉積成具有薄膜材料某些特殊特性的材料，按操作工藝可分為兩種，濺射沉積法和真空蒸發沉積法。PVD技術是制備薄膜材料的主要技術之一，在真空條件下用物理方法，將物質表面氣化成氣態原子、分子或部分電離離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，基片材料表面沉積具有特殊功能的薄膜材料。